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双温对置摆荡式染样机

发明专利号:ZL200510039068.1


双温对置摆荡式染样机

  XW-BDR系列摆荡式染样机,是针对振荡式染样机有烦人的振动和噪声以及寿命短而研制成功的。它应用往复惯性力完全平衡原理,采用对置活塞式发动机的成熟结构和四连杆平摆机构,极限工作速度远比振荡机高。它几乎没有烦人的振动和噪声,大大提高匀染性和工作寿命,该机胜任振荡式染样机的全部工作,属于环保型产品。

主要技术参数
1、加热介质:水
2、工作温度:室温-98°C
3、杯子容积(ml):100,250,300
4、杯子数量:12和24
5、控温精度:±0.5℃
6、加热电源:AC380V50Hz
7、控制电源:AC220V50Hz
8、摆荡速度:无级调节≤200次/分
9、可提供500ml,800ml特殊规格




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